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通知公告

2019年第三届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2019)征稿通知

稿件来源: 发布时间:2019-05-17

      第三届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2019)于20191017-18日在中国南京举行。本次大会由集成电路产业技术创新战略(ICTIA)和中国光学学会(COS)联合主办,必威体育_必威体育app客户端(IMECAS)承办。本次会议延续了以往两届的风格,为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就相关主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。 

  IWAPS致力于发表前沿的微电子制造技术研究成果。会议主题涵盖先进半导体制造领域中从早期的理论和实验,到工业化大规模量产的应用等内容。包括但不局限于: 光刻,极紫外光刻(EUV),量测及缺陷检测,设计工艺联合优化(DTCO)与可制造性设计(DFM),材料,器材,工艺。接收的会议稿件择优将于《Journal of Microelectronic Manufacturing》上全文发表,并且给最佳论文作者颁发年度奖项。 

 

  

  国际先进光刻技术研讨和Journal of Microelectronic Manufacturing期刊标志(由会议组委会和期刊委员会提供) 

  投稿、参会报名连接:www.iwaps.org/cn 

  摘要截止日期:2019715日。本次大会是集成电路制造领域的一次盛会,欢迎您参加本次会议! 

  任何问题可直接致信:jomm_iwaps@ime.ac.cn 

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